Chemtrace AMC monitoring and risk management

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Chemtrace AMC monitoring and risk management

Chemtrace AMC monitoring and risk management

半导体，光伏和OLED的高精度制造需要超洁净环境。洁净室空气中的微量污染物，例如过程溢出物，操作员，洁净室消耗品和建筑材料，通常被认为是AMC升高的根本原因，当未被检测及控制时，它们可能对关键零部件表面产生不利影响，导致设备和半导体工具性能下降。
根据SEMI标准F21-1016的AMC分类，AMC区分为分子酸，碱，可冷凝有机物，掺杂剂和金属，它们可以改变半导体材料的电性能。 ITRS和IRDS技术发展指南提出了该行业的污染水平要求，但是，随着技术节点从Fab到Fab的不同，对于个体Fab来说，建立过程容差或控制限制以及监控AMC至关重要。

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Features and Advantages
Specifications
Applications

◆ Characteristics

CHEMECILS

• CLEANING CHEMICALS

• PRECURSORS

• SLURRIES

• SPIN ONCHEMICALS

• PHOTORESISTS

• SRRIPPERS

• PLATING SOLUTIONS

• NANO PARTICLES

• SILICON INKS

WATER

• RAW WATER

• ULTRAPURE WATER

• RECLAIM WATER

• PROCESS WATER

CLEANROOM MATERIALS

• WAFER CASSETTES

• WAFER WAND TIPS

• GLOVES WIPES SWABS

• PACKAGING MATERIALS

• FILTTER MEDIA

• SEALANTS ADHESIVES

• FIRE RETARDANTS

• PAINTS

WAFER

• VIGIN WAFER

• RECLAIM WATER

• PROCESSED WATER

high-k,low-k,Oxides,nitrides,Metal Films

TOOL COMPONENTS

• NEW PARTS

• REFURB PARTS

• CLEANED PARTS

AIRBORNE MOLECULAR CONTAMINATION(AMC)

• CLEANROOM AIR

• GAS LINE

• CHAMBER ENVIRONMENT

◆ 空气分子污染(AMC)和洁净室材料分析

• 半导体，光伏和OLED的高精度制造需要超洁净环境。洁净室空气中的微量污染物，例如过程溢出物，操作员，洁净室消耗品和建筑材料，通常被认为是AMC升高的根本原因，当未被检测及控制时，它们可能对关键零部件表面产生不利影响，导致设备和半导体工具性能下降。

• 根据SEMI标准F21-1016的AMC分类，AMC区分为分子酸，碱，可冷凝有机物，掺杂剂和金属，它们可以改变半导体材料的电性能。 ITRS和IRDS技术发展指南提出了该行业的污染水平要求，但是，随着技术节点从Fab到Fab的不同，对于个体Fab来说，建立过程容差或控制限制以及监控AMC至关重要。

• 全面的AMC测试产品组合可用于支持洁净室建筑材料，洁净室消耗品，洁净室环境，检测工具内环境，气体分配系统的资格认证和监控，以及灾后恢复清理后洁净室环境的重新认证。