整个半导体制造过程中产生的静电荷，主要是由不同材料的接触和分离引起的。静电荷以三种方式影响生产良率和产量：静电荷以静电吸附（ESA）从空气中吸引微粒，导致的晶圆和光罩的产出不良。静电放电（ESD）会在光罩、晶圆或封装芯片上造成即时或潜在的缺陷。静电放电还会产生电磁干扰（EMI），触发设备内的微处理器锁定和自动部件故障，导致生产流程中断和不良率提高造成的成本增加。
除了接地、采用防静电材料等措施之外，用离子中和的方法是目前有效的消除静电影响的手段，美国Simco-Ion公司具有80年的行业经验， 通过电晕放电方式产生正负离子，用于中和空气中和工作表面的微粒上的静电荷，可保持洁净室和产品的完整性。Simco-Ion一直是半导体制造领域内创新离子产生器和监测技术的公认领导者，全球经验丰富的应用工程团队确保能为特定制程应用优化离子产生器功效。以下是几个在行业内独占市场的优势产品：
环境式离子器：
洁净室内的关键制程区域，如光刻、光罩存储、FOUP 清洗和Wafer Start，对于整体环境内微粒有极高要求，也就需要广泛覆盖的离子氛围，中和制程产生的静电荷，达至大幅度减少产品缺陷。室内离子系统（5515 模组 和 5582 控制器）能为整个制程区域提供静电控制和保护。IonManager Pro 控制软件可通过实时监控来管理电离系统，以实现更大的除静电效能。
设备内离子棒：
在设备和 EFEM 等空间有限的环境内，使用5225 离子产生器，利用 IonMonitor 电脑软件来调整参数，控制，和设定离子输出，能持续维持优化的效能。更先进的5635 MP 离子产生器的洁净度超越 Cleanliness ISO 1 级的规定，可扩展达到小于 10 nm 的微粒产生控制，提供洁净的离子产生器，适用于先进晶圆技术的制造
设备内离子风机及监控：
在设备狭小空间使用的离子风机，需要有体积小巧，消除静电速度快，有报警显示及输出，符合相应的洁净度要求等特性，Simco-Ion有全系列多种型号风机可供选择，标准状态下可提供离子平衡度<±3V，配合 Novx 智能控制系统，可达控制区域的离子平衡在 <±1V。
高纯氮环境适用的离子器：
在99.999% 高纯氮气环境中，因为没有其它空气成分，普通离子器不能正常工作，独特的4214 在线离子产生器，产生氮离子气流，为前沿制程提供超高洁净的静电中和
高温环境适用的离子器：
4612 极端温度离子产生器适用于高达 150°C 和低至 -50°C 的环境，适用于受控环境室或高温箱应用中的测试
Simco-Ion对于半导体制程前工序、后工序；面板行业；通用电子行业；有洁净要求的医疗器械行业都有着广泛应用，如需资料查询，敬请联络卫利国际科贸（上海）有限公司
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